Bersaglio in metallo PVD Bersagli con piastra in titanio al 99,9%.

Bersaglio in metallo PVD Bersagli con piastra in titanio al 99,9%.

1. Bersaglio per sputtering in titanio
2. Bersaglio rettangolare della piastra
3. Titanio puro al 99,9%.
4. Dimensioni secondo i disegni.
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Descrizione

 

Descrizione dei prodotti Telefono:0917-3664600

Un target a piastra in titanio è un pezzo solido di metallo di titanio che viene utilizzato come materiale di partenza nel processo di deposizione fisica da vapore (PVD) o sputtering per creare pellicole sottili o rivestimenti su varie superfici.

Caratteristiche del prodotto:

Leggero: il titanio è noto per la sua bassa densità, che conferisce ai bersagli a piastre in titanio un significativo vantaggio in termini di peso rispetto a molti altri metalli. Questa caratteristica di leggerezza è particolarmente vantaggiosa nell'industria aerospaziale, automobilistica e in altri settori in cui si desidera ridurre il peso per migliorare l'efficienza del carburante, migliorare le prestazioni e aumentare i carichi utili.

Eccellente resistenza all'erosione: i bersagli con piastra in titanio mostrano una notevole resistenza all'erosione e all'usura. Questa proprietà li rende adatti per applicazioni che coinvolgono flussi di fluidi ad alta velocità, particelle abrasive o ambienti difficili, come pompe, valvole e componenti nelle industrie di lavorazione chimica e petrolifera e del gas.

Titanium Plate Sputtering Target
Specifica Telefono:0917-3664600
Grado Titanio puro
Misurare 5 cm x 5 cm, 10 cm x 10 cm, 15 cm x 15 cm, 20 cm x 20 cm ecc.
Superficie Superficie luminosa
Standard ASTMB265
Immagini del prodotto Telefono:0917-3664600
Titanium Evaporation Target price
Titanium PVD Target
Titanium Evaporation Target
Vantaggi dei bersagli di sputtering con piastre in titanio

Durante il PVD o lo sputtering, un fascio ionico ad alta energia viene diretto verso il bersaglio della piastra di titanio, provocando l'espulsione degli atomi nel bersaglio e lo spostamento verso la superficie del substrato. Questi atomi espulsi si depositano sulla superficie del substrato e formano una pellicola o rivestimento sottile.

I target con piastre in titanio sono ampiamente utilizzati in settori quali quello aerospaziale, biomedico, elettronico e ottico, tra gli altri, grazie alle proprietà uniche del titanio, tra cui resistenza alla corrosione, biocompatibilità ed eccellente stabilità meccanica e termica.

Eccellente adesione: i film sottili depositati da target con piastre in titanio mostrano una buona adesione a vari substrati, consentendo la produzione di rivestimenti di alta qualità e film sottili con eccellenti proprietà meccaniche.

Applicazioni dei bersagli con placca in titanio

I bersagli con piastra in titanio possiedono diverse caratteristiche distintive che li rendono adatti a varie applicazioni.

1. Deposizione di film sottile: i target di sputtering su piastre di titanio vengono spesso utilizzati nei processi di deposizione fisica in fase di vapore (PVD) per depositare film sottili su substrati. Questi film sottili possono essere utilizzati per rivestimenti funzionali, come resistenza all'usura, resistenza alla corrosione o scopi decorativi.

2. Produzione di semiconduttori: nell'industria dei semiconduttori, i target a film sottile di titanio vengono utilizzati nella fabbricazione di circuiti integrati e altri dispositivi microelettronici. Sono utilizzati nei processi di sputtering per depositare strati di titanio per varie applicazioni, inclusi strati barriera, interconnessioni e strati di contatto.

3. Energia solare: gli obiettivi in ​​​​piastre di titanio svolgono un ruolo vitale nella produzione di celle fotovoltaiche e pannelli solari. Sono utilizzati nei sistemi di sputtering per depositare strati di ossido conduttivo trasparente (TCO), come l'ossido di titanio, che aumentano l'efficienza delle celle solari migliorando la trasmissione della luce e la conduttività elettrica.

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Come scegliere il target metallico per il tuo progetto di sputtering?

 

Di solito è necessario considerare i seguenti fattori quando si selezionano i target per lo sputtering dei metalli:

  • Requisiti dell'applicazione: in primo luogo, è fondamentale determinare i requisiti dell'applicazione. Diversi target per lo sputtering di metalli sono adatti a diverse applicazioni, come la deposizione di film sottili, la produzione di dispositivi elettronici, rivestimenti ottici, ecc. Comprendere le proprietà del materiale del film e i requisiti di processo richiesti può aiutare a restringere la selezione del target.
  • Proprietà fisiche e chimiche: considerare le proprietà fisiche e chimiche dei materiali richiesti, come punto di fusione, conduttività termica, conduttività elettrica, coefficiente di espansione termica, ecc. Queste proprietà influenzeranno direttamente il processo di sputtering e la crescita, l'adesione e le proprietà del film.

Altro correlatobersagli in titanio.

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